本模型为一款高性能全自动曝光机，整机外形尺寸为 2500mm × 3200mm × 2558mm (长×宽×高)。该设备集成了先进的自动化功能，包括自动上下料系统、高精度自动视觉对位系统以及自动曝光单元，实现了制程的高度自动化与集成化。其核心定位技术采用高性能的 UVW 对位平台，配合精密的直线模组驱动系统。UVW 平台结构确保工作台能够在平面内实现 X/Y/θ 三自由度的精密调整，结合直线模组的高刚性及平稳运动特性，使设备整体对位精度达到行业领先的 ±3μm 级别，满足高精度光刻制程的严苛要求。
